日本批准部分半导体材料出口韩国

发布时间:2019-08-08 发布者:亚洲时报

据日本共同社报道,日本经济产业相世耕弘成8日在内阁会议后的记者会上,就加强对韩国出口管制的半导体材料称,已批准部分出口。

 

日本官房长官菅义伟称“这表明(加强管制)并非禁运措施,对正当的交易不会随意运用管制,而是发出许可。”据悉,该批准条例是日本对韩国限贸后的首次批准。


日本官房长官菅义伟(图源:网络)

 

此外,日本政府在8月2日的内阁会议中,也批准通过《出口贸易管理令》修正案,决定将韩国从“白名单”中删除。7日,日本政府正式颁布将韩国从“白名单”中剔除的政令。

 

不过援引路透社消息,日方此次批准出口韩国的是用于半导体集成电路制造的核心材料——光刻胶。据《日经亚洲评论》称,虽然日本政府方面的出口限制已不是完全的禁令,但是考虑到额外的审批手续,出口限制对韩国半导体制造业的影响仍然不明。

 

日本限制出口韩国的原材料有哪些?

 

据悉,自日本正式启动对韩国的半导体材料管制出口后,根据这项管制政策,第一批被宣布进行出口管制的是作为半导体和显示器制造材料的光刻胶、蚀刻气体氟化氢和氟化聚酰亚胺这三种材料。

 

它们主要是用于智能手机面板以及电视的液晶屏,此外光刻胶也是半导体晶圆片的核心材质。

 

根据韩国贸易协会发行的报告显示,韩国半导体及显示器行业在这三类材料对日本的依赖度分别是91.9%、43.9%及93.7%。


(图源:网络)

 

(1)光刻胶

 

半导体光刻工艺实现选择性刻蚀的关键材料。由感光剂(光引发剂)、聚合剂(感光树脂)、溶剂与助剂构成,广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作。


(图源:网络)

 

以半导体光刻胶为例,在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在衬底上,经过曝光(改变光刻胶溶解度)、显影(利用显影液溶解改性后光刻胶的可溶部分)与刻蚀等工艺,将掩膜版上的图形转移到衬底上,形成与掩膜版完全对应的几何图形。

 

(2)氟化氢

 

一种一元弱酸。其中电子级氢氟酸是集成电路行业中的关键辅助材料之一,在集成电路制作过程中主要是用于晶圆表面清洗、芯片加工过程的清洗和腐蚀等。据资料显示,运用在半导体制作过程中,有大约50多个环节需要使用到高纯度氟化氢。


(3)氟化聚酰亚胺


(图源:雪球:中国半导体论坛)

 

聚酰亚胺的一种,在平板显示器(FPD)领域中主要有两类应用:一类是用于柔性屏基板的氟化聚酰亚胺膜,另一类无色聚酰亚胺是折叠OLED盖板的必要材料。因其具有耐高温、高绝缘以及高稳定等特性,目前广泛用于柔性显示器、平板显示器、柔性太阳能电池以及半导体器件等领域。

 


责任编辑:杨颖

亚洲时报 综合


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